Prospek Ripple dan Stellar: Penembusan Dapat Dorong Reli Berikutnya

• XRP mendekati resistance utama di US$1,52 pada hari Selasa, di mana penutupan di atasnya mengindikasikan kenaikan lebih lanjut.
• XLM melanjutkan kenaikan setelah bertahan kuat di atas EMA 200 hari di US$0,190, menjaga bias ke atas tetap utuh.
• Sinyal on-chain beragam dengan bias bearish ringan membuat para pedagang tetap berhati-hati terhadap kedua altcoin.

Ripple (XRP) dan Stellar (XLM) menunjukkan tanda-tanda kekuatan kembali pulih setelah reli lebih dari 53% dan 27% pada pekan sebelumnya. Sementara itu, kedua altcoin tersebut mendekati level-level teknis utama pada hari Selasa yang dapat menentukan pergerakan berikutnya. Namun, sinyal on-chain yang beragam dengan kecenderungan bearish ringan mengindikasikan para pedagang tetap berhati-hati di tengah kenaikan harga baru-baru ini.

Data On-Chain Menunjukkan Bias yang Beragam

Data ringkasan CryptoQuant menunjukkan optimisme yang terkendali. Pasar kontrak berjangka XRP menunjukkan order whale yang besar tetapi kondisi terlalu panas setelah lonjakan harga baru-baru ini. Metrik-metrik lainnya tetap netral, menyoroti sentimen yang beragam di antara para pedagang.

Sementara itu, XLM menunjukkan dominasi sisi jual di kedua pasar dan order whale yang besar, mengisyaratkan sentimen hati-hati di antara para pedagang.

Terlepas dari prospek yang beragam ini, permintaan institusional XRP tetap kuat. Data SoSoValue menunjukkan Exchange Traded Funds (ETF) spot mencatat arus masuk sebesar US$13,82 juta pada hari Senin, menandai arus masuk lima hari berturut-turut sejak pekan lalu. Jika tren ini berlanjut dan menguat sepanjang pekan, XRP dapat melanjutkan reli.

Prospek Teknis XRP: Mendekati Zona Resistance Utama

Harga XRP diperdagangkan di US$1,526 pada hari Selasa setelah melonjak lebih dari 53% pada pekan sebelumnya. XRP mempertahankan bias bullish jangka pendek yang jelas, bertahan jauh di atas Exponential Moving Average (EMA) 50 hari, 100 hari, dan 200 hari yang berkumpul di antara sekitar US$1,157 dan US$1,350, yang kini menopang tren naik.

Relative Strength Index (RSI) di sekitar 82 menandakan kondisi jenuh beli, sementara Moving Average Convergence Divergence (MACD) tetap positif dengan garis di atas garis sinyalnya dan histogram yang masih melebar, mengindikasikan momentum ke atas kuat namun sudah terlalu jauh.

Di sisi atas, resistance terdekat muncul di US$1,526, batas horizontal terdekat tepat di atas harga saat ini, dengan resistance yang lebih tinggi di US$1,900.

Di sisi bawah, klaster EMA yang miring ke atas memberikan support awal, dipimpin oleh EMA 200 hari di US$1,350 dan EMA 100 hari serta 50 hari masing-masing di US$1,188 dan US$1,157. Pada saat yang sama, pullback yang lebih dalam dapat kembali menguji dasar horizontal di dekat US$1,000 jika aksi profit taking semakin cepat dari wilayah jenuh beli.

Prospek Teknis XLM: EMA 200 Hari Menahan Penguatan

Harga Stellar diperdagangkan di US$0,196 pada hari Selasa setelah reli lebih dari 27% minggu lalu. Bias jangka pendek bullish karena harga bertahan di atas EMA 50 hari, 100 hari dan 200 hari yang berkumpul di antara sekitar US$0,180 dan US$0,190, mengindikasikan basis yang konstruktif setelah penembusan terbaru. 

RSI berada di sekitar 65, menunjukkan momentum ke atas solid namun belum ekstrem, sementara Moving Average Convergence Divergence (MACD) tetap positif dengan garis MACD di atas garis sinyalnya dan histogram yang masih positif, mengisyaratkan bahwa pembeli masih memegang kendali meskipun garis resistance tren menurun yang lebih luas masih membayangi di atas.

Di sisi atas, resistance awal terlihat di Fibonacci retracement 61,8% di dekat US$0,200, dengan penghalang berikutnya di retracement 50% di sekitar US$0,218 dan level Fibonacci retracement 38,2% di dekat US$0,237.

Di sisi bawah, support terdekat muncul di EMA 200 hari di sekitar US$0,190, diikuti oleh zona permintaan padat yang dibentuk oleh EMA 100 hari dan 50 hari di US$0,179 dan US$0,177, serta support horizontal terdekat di US$0,177.

(Analisis teknis dalam berita ini ditulis dengan bantuan alat AI. Pelajari lebih lanjut.)